3세대 반도체 세정장비(SiC, GaN)는 심각한 공간 제약에 직면해 있다. 250~350mm의 표준 FFU는 이러한 고급 도구의 제한된 수직 간격에 맞지 않습니다. 이 기사에서는 공간이 제한된 장비 통합을 위해 특별히 설계된 DSX의 70mm 초박형 EFU를 소개합니다. ~100mm의 총 작동 두께, 최대 99.9995%(@0.12μm)의 ULPA 여과 효율 및 전체 공급망 제조를 갖춘 이 솔루션을 통해 청소 장비 제조업체는 클린룸 성능을 저하시키지 않으면서 내부 공간을 최대화할 수 있습니다.
팬 필터 장치(FFU) 및 장비 팬 필터 장치(EFU)는 현대 클린룸에 사용되는 필수 공기 흐름 시스템입니다. FFU는 전체 클린룸 환경의 청결을 유지하는 반면, EFU는 특정 제조 장비에 국부적인 초청정 공기 흐름을 제공합니다. 이 기사에서는 FFU와 EFU 시스템의 주요 차이점, 반도체 및 전자 제조 분야의 응용 분야, 가장 적합한 공기 흐름 솔루션을 선택하는 방법에 대해 설명합니다. 또한 현대 반도체 장비의 엄격한 공간 요구 사항을 충족하기 위해 개발된 혁신적인 로우 프로파일 EFU 설계를 소개합니다.
소개: 제약 클린룸 패러다임 전환 제약 제조에 있어 이보다 더 큰 위험은 없습니다. 규제 요건이 강화되고 제품 순도에 대한 기대가 높아짐에 따라 클린룸 설계는 모든 것에 적용되는 단일한 접근 방식에서 보다 미묘한 응용 분야로 발전했습니다.
DSX(Wujiang Deshengxin Purification Equipment Co., Ltd.)는 제약 및 생명과학 산업을 위한 수직 통합 EFU 솔루션을 제공합니다. 30,000제곱미터 규모의 시설과 독점적인 EC 모터를 활용하여 무균 처리 및 실험실 환경에 대한 정밀한 공기 흐름 제어와 엄격한 GMP 준수를 보장하는 멸균 등급 EFU(304/316L 스테인레스 스틸)를 제조합니다.
DSX는 특히 정밀 제조 산업을 위해 수직적으로 통합된 EFU 솔루션을 제공합니다. 30,000평방미터 규모의 시설에서 독자적인 EC 모터와 고급 필터를 자체 제조함으로써 미세 진동과 공기 중 분자 오염(AMC)을 제거하여 반도체 및 하이테크 제조의 최대 수율을 보장합니다.
현대 과학 연구에서 ISO 표준 공기 순도를 달성하는 것은 시작에 불과합니다. 반도체 R&D, 생명공학 또는 정밀 계측 분야에서 장비 내부 환경은 클린룸 자체만큼 중요합니다. 장비 팬 필터 장치(EFU)가 필수가 되는 곳입니다.